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試驗真空環(huán)境模擬為了考核和研究某些活動部件、伸展機構(gòu)的干摩擦、冷焊性能和研究材料在真空條件下的升華、重量損失、老化等效應，需要在更高的真空度和其他空間環(huán)境因素的組合下進行試驗。大家都知道現(xiàn)在真空系統(tǒng)在各個行業(yè)的應用越來越廣泛，下面我們?yōu)榇蠹医榻B一下現(xiàn)在常用的熱真空系統(tǒng)在熱真空試驗設備中的應用吧。熱真空系統(tǒng)應用于半導體、集成電路、光電器件的制造工藝過程，是集成電路設備中的關鍵設備之一；它也用于各種其它鍍膜設備和真空應用設備中。真空系統(tǒng)在熱真空系統(tǒng)中的應用熱真空系統(tǒng)是指在真空和一...

兆聲清洗機不僅保留了超聲波清洗的優(yōu)點，而且克服了超聲波清洗的缺點。兆聲無損清洗機的工作原理是利用高能（850kHz）頻率效應和化學清洗劑的化學反應對硅片進行清洗。在清洗過程中，換能器發(fā)出的高能聲波波長為1m，頻率為0.8MHZ。在聲波的驅(qū)動下，溶液的分子運動得更快。瞬時速度可達30cm/s。因此，無法形成超聲清洗等氣泡。相反，兆聲清洗機只能用高速的流體波不斷地沖擊晶圓片表面，迫使附著在晶圓片表面的微小污染物顆粒被去除并進入清洗溶液中。經(jīng)濟的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對消費...

近些年以來，兆聲清洗機的發(fā)展非常迅速，無論是在工業(yè)清洗、市政工程清洗，還是民用清洗幾乎隨處可見高壓清洗機的應用。目前高壓清洗機占各種清洗設備比例的80%以上。所以，我們在選購高壓清洗機時，重要的是根據(jù)使用要求選擇合適的設備型號，從而到達降低成本、減少損失和浪費的目的。兆聲清洗機用于沖洗過濾液壓系統(tǒng)在制造、裝配、使用過程及維護時生成或侵入的污染物；也可以適用于對工作油液的定期維護過濾，提高清潔度，避免或減少因污染而造成的故障，從而保證液壓系統(tǒng)設備的高性能、高可靠度和長壽命。清洗...

NANO-MASTER設計制造的磁控濺射系統(tǒng)在行業(yè)內(nèi)有*的競爭力，設備擁有以下突出的優(yōu)勢：1.計算機全自動控制的自動上下片，上面和對準的過程全部通過計算機控制，無需人工操作，并且不會損傷系統(tǒng)；2.全自動膜厚監(jiān)控，客戶可以在軟件設定目標膜厚，整個工藝階段可以實現(xiàn)無人值守，無需人工介入，薄膜膜厚具有高度的重復性；3.出色的膜厚均勻度，對于6"片范圍內(nèi)，濺射金屬膜時，可以達到優(yōu)于+/-1%的均勻度；4.系統(tǒng)可以支持濺射前的等離子預清洗功能，提供優(yōu)異的膜基層性能；5.系統(tǒng)支持預濺射，...

說到等離子清洗技術，目前已經(jīng)廣泛應用于很多領域，比如光學電子或者生物醫(yī)療等很多行業(yè)都會用到等離子清洗設備，而等離子清洗設備的工作原理是利用等離子體來對物體表面進行清洗，清洗效果是常規(guī)清洗方法無法達到的，且現(xiàn)在使用等離子清洗設備的地方越來越多，今天離子清洗機廠家來說下在使用微波等離子清洗機時需要注意什么？一、微波等離子清洗機可以根據(jù)具體功能細分為真空等離子清洗機或者卷對卷等離子清洗設備等很多種，因此在使用等離子清洗設備之前應該詳細閱讀配套的使用說明書，而且很多等離子清洗設備在使...

熱真空試驗箱是在地面上模擬太空環(huán)境的環(huán)境模擬試驗設備。近幾年來，熱真空試驗設備在航天航空業(yè)產(chǎn)品的研制和定型中發(fā)揮了重要作用。熱真空試驗箱由于結(jié)構(gòu)復雜，在運行中有時會出現(xiàn)一些異?，F(xiàn)象，如果不能及時排除，將延長試驗周期，影響產(chǎn)品的研制工作。為此，我們對試驗箱的基本工作原理作一些簡要闡述，并介紹如何對熱真空試驗箱的一般故障進行分析判斷和排除。熱真空試驗箱對故障現(xiàn)象的分析診斷與排除（1）斷開制冷控制，制冷閥關閉檢查真空計通訊接口有無松動，分子泵轉(zhuǎn)速有無發(fā)生變化，經(jīng)檢查都正常，說明真空...

兆聲清洗機是一款帶有小占地面積的理想設備，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。兆聲清洗機提供了可控的化學試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進一步加強。SWC和LSC具備對點試劑滴膠系統(tǒng)，可以zui大程度節(jié)省化學試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學試劑混合能力，提供了可控的化學試劑在整個基片上的分布。兆聲清洗機具有以下特點：1、械手或多機械手組合，實現(xiàn)工位工藝要求。2、PLC全程序控制與觸摸屏操作界面，操作...

RIE刻蝕機，又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。某種程度來講，等離子清洗實質(zhì)上是等離子體刻蝕的一種較輕微的情況。RIE刻蝕機的原理與激光打標機相同，即通過高能量的激光光束照射到材料表面使其瞬間氣化...